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MESA/SC晶片清洗設(shè)備

發(fā)布時(shí)間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點(diǎn)擊:111次

MESA/SC晶片清洗設(shè)備(圖1)

 

概述:

該設(shè)備用于晶片的清洗處理。該機(jī)清洗程序?yàn)樗嵯?、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指?biāo)及可靠性完全達(dá)到進(jìn)口同類設(shè)備水平。

主要特點(diǎn):

采用進(jìn)口PP板制作。

適用MESA*SC晶片清洗。

超聲功率強(qiáng)勁,性能穩(wěn)定。

采用進(jìn)口超聲波電源。


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